为什么低硅烧结矿具有较好的还原性?

低硅烧结矿还原时的有效扩散系数和化学反应速度常数比高硅烧结矿大，故烧结矿的还原性随SiO2含量降低而升高。在900C以下进行还原时，烧结矿SiO2越低，气体扩散阻力所占的比例就越小。有效扩散系数小的高硅烧结矿在还原率超过30%时，反应限制环节就由化学反应转变为还原铁层内的扩散，而低硅烧结矿在还原率超过60%时，反应限制环节仍为化学反应。而且，对应全还原阻力，低硅烧结矿还原时气体扩散阻力的比例要比还原高硅烧结矿时小，其差异是由两者的还原率不同及还原后期反应停滯或级和面引起的。